Pharmazeutische Regulierungsangelegenheiten: Open Access

Vergleich der Strahlungsbeständigkeit von Polysulfonen aus verschiedenen aromatischen Diolen und 4,4'-Dichlordiphenylsulfon

Abstract

Hideharu Shintani

Ein aromatisches Polysulfon besteht aus einer 4,4'-Diol-aromatischen Verbindung und 4,4'-Dichlordiphenylsulfon. Als 4,4'-Diol- aromatische Verbindungen gibt es Bisphenol A, p-Dihydroxybenzol, 4,4'-Diphenolmethan und p,p'-Diphenol (Bisphenol), und sie wurden verglichen, um zu untersuchen, welche Verbindung sich als am beständigsten gegen Gammastrahlen- Bestrahlung erweist. Als Indikator für die Bewertung diente Schwefeldioxid (SO2) aus 4,4'-Dichlordiphenylsulfon. Die Verwendung von Bisphenol bei der Herstellung von Polysulfon erwies sich unter den getesteten aromatischen Diolverbindungen als am beständigsten gegen Gammastrahlen-Bestrahlung und mit der geringsten SO2-Produktion. Dies zeigte, dass Bisphenol-A-freies Polysulfon herstellbar ist. Die SO2-Produktion aus Bisphenol-basiertem Polysulfon lag bei etwa 43 % des Bisphenol-A-basierten Polysulfons. Die Abnahmerate der Zugfestigkeit korrelierte gut mit der Größenordnung der Strahlenresistenz. Die Bruchzähigkeit von Polysulfon auf Bisphenol-A-Basis nahm mit der Bestrahlungsdosis ab, aber das Polysulfon auf Bisphenol-Basis behielt seine ursprüngliche Duktilität .