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Zeitschrift für chemische Wissenschaften

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Study of SiO2 Etching using Plasma Diagnostics

Abstract

Rami Onkar

Plasma is described as semi-neutral plasma of charged, unbiased particles that exhibits collective behaviour. The distinctive features that distinguish plasma from other release characteristics are applied in many contemporary and research sectors, such as regulating the component particles for specific uses.

Haftungsausschluss: Dieser Abstract wurde mit Hilfe von Künstlicher Intelligenz übersetzt und wurde noch nicht überprüft oder verifiziert

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